生产型电阻蒸发镀膜机
2021-08-18 00:00:00
[设备主要用途]
真空电阻蒸发镀膜机采用电阻蒸发方式，可对金属材料进行蒸发镀膜。
用于制备各种金属导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等。
[设备主要组成]
该设备由真空室、样品加热转台、电阻蒸发源、蒸发控温电源、真空获得与测量、电控系统、升降装置、安装机架等组成。
[设备技术性能指标]
极限真空：≤5×10-5Pa
镀膜室尺寸：Φ300×H400（㎜）,单层壁面全不锈钢制钟罩形立式真空室，电动升降。
样品尺寸：30×30 可一次装4片，样品不加热不旋转，但可上下升降
蒸发源：金属蒸发源共2组，水冷铜电极；
有机蒸发源：2组，石英坩埚，温度可控可调。
蒸发源电源：金属蒸发源2KW，2台，精确控制其蒸发速率
石英晶振膜厚监测仪：厚度测量范围：0.1?～99μ
[设备安装条件]
供电电源：三相380V 50Hz 8KW
冷却水：水压≥2kg/cm2 ，流量≈0.6m3/h
占地面积：主机：1000mm×850mm 电控柜： 600mm×600mm
总重量：约300kg
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